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PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯

簡要描述:PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯 是一種用途廣泛的聚合物,適用于多種成像和非成像微電子應用。它常被用作電子束直寫、X 射線和深紫外光刻工藝中的高分辨率正性光刻膠,也可用作晶圓減薄的保護涂層、鍵合粘合劑以及犧牲層。

  • 產(chǎn)品型號:200K
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-08-05
  • 訪  問  量:59

詳細介紹

PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯是微電子領域的重要材料。PMMA是一種用途廣泛的聚合物,適用于多種成像和非成像微電子應用。它常被用作電子束直寫、X射線和深紫外光刻工藝中的高分辨率正性光刻膠,也可用作晶圓減薄的保護涂層、鍵合粘合劑以及犧牲層。

標準PMMA產(chǎn)品膜厚范圍廣,由分子量為495,000和950,000的樹脂,搭配氯苯或更安全的苯甲醚溶劑制成。還可根據(jù)需求提供分子量在50,000 - 220萬的定制產(chǎn)品。此外,共聚物(MMA (8.5) MAA)產(chǎn)品使用更安全的乳酸乙酯溶劑配制。產(chǎn)品包裝規(guī)格從500毫升到20升不等。

在使用時,需遵循特定的加工指南。首先,要確?;迩鍧嵏稍?,常用且推薦的清潔方式有溶劑清洗、氧氣等離子體清洗和臭氧清洗 。涂覆時,可參考薄膜厚度與自旋速度曲線選擇合適的PMMA稀釋度和自旋速度。不同產(chǎn)品的預烘烤、曝光、顯影、后烘烤(可選)等環(huán)節(jié)都有對應的溫度、時間、劑量等參數(shù)要求。顯影后,要用1:3或1:4的甲基異丁基酮(MIBK)與異丙醇(IPA)混合液、酒精或去離子水進行沖洗和干燥,以終止顯影過程并防止產(chǎn)生浮渣。PMMA和共聚物抗蝕劑可以使用MCC的Remover PG或標準潔凈室溶劑去除 。

操作過程中,要注意安全。由于PMMA溶液易燃,應避免接觸眼睛、皮膚和衣物,在通風良好的環(huán)境下使用,避免吸入煙霧,操作時需佩戴化學防護眼鏡、手套。該產(chǎn)品與玻璃、陶瓷等多種材料兼容,但氯苯會腐蝕部分彈性體和塑料,建議使用VITON A材質的O型圈和 tubing。儲存時,應將產(chǎn)品直立放置在干燥區(qū)域,溫度保持在10 - 27°C,避免冷藏,遠離火源、光線、熱源、氧化劑、酸和還原劑。

PMMA 聚甲基丙烯酸甲酯

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