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Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導(dǎo)體濕法工藝的經(jīng)驗(yàn)積累，通過對各路試劑注射的控制，對氮?dú)夂腿ルx子水綜合應(yīng)用，能夠完整實(shí)現(xiàn)樣片的干進(jìn)干出。是當(dāng)今*和經(jīng)濟(jì)的濕法處理解決方案。

Laurell勻膠顯影機(jī)EDC產(chǎn)于美國，是原裝的濕法刻蝕設(shè)備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業(yè)提供化工半導(dǎo)體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統(tǒng)，目前客戶已遍布。還有WS-1000濕法刻蝕設(shè)備，WS-1000m濕法刻蝕設(shè)備等多種半導(dǎo)體濕制成設(shè)備。

EDC濕法刻蝕顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。