18971121198
當前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng) > 半自動旋涂顯影刻蝕機
產(chǎn)品分類
LCS專為晶圓和平面基片的半自動旋涂和開發(fā)而設計，將是試點項目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復性以及簡單的操作和維護。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
郵箱：sales@mycroinc.com
傳真：歡迎您關注我們的微信公眾號了解更多信息
掃一掃
歡迎來到